Semiconductor photomask ihe nkiri nchebe dị ụkọ ma ọnụ ahịa na-arị elu

Ka ụlọ ọrụ na-emepụta ihe na-aga n'ihu na-apụta, ọchịchọ maka ihe nkiri pellicle maka usoro Arf na Krf lithography.nrụpụta waferagafeela ọnụ ahịa ma abawanye.

N'afọ gara aga, onye na-ebubata akụrụngwa 3M ga-emechi ụlọ ọrụ ya na Belgium iji rube isi na mpaghara.iwu nchekwa gburugburu ebe obibi, ọnụ ahịa akụrụngwa butere ọnụ ahịa ihe nkiri nkpuchi dị elu, yana njikọ dị n'etiti ndị na-emepụta ihe nkiri Japan belatara mmepụta nke ngwaahịa ndị metụtara ya na ọkọnọ siri ike.Na mgbakwunye, ọtụtụ ndị na-emepụta ihe nkiri nkpuchi na-emepụtakwa mkpuchi ọhụrụ maka ọnụ ụzọ usoro dị elu dị ka EUV, na-ebute mbelata mmepụta ihe.

Ndị na-ebu ihe nkiri nchebe fotomask South KoreaFSTA na-atụ anya ịbawanye nha nke ego mbupụ nkpuchi n'afọ a site na 30% n'afọ gara aga ruo 40% n'afọ a.